光刻机在全球范围内被广泛应用于半导体制造行业，它们是现代微电子技术的关键设备。然而，光刻机的研发和生产能力并不在每个国家都有，这就引出了一个问题：光刻机哪个国家能造？而且，哪个国家的技术更领先？

要回答这个问题，我们首先需要了解光刻机的基本原理。光刻机通过激光或其他形式的辐射源来照射具有特定图案信息的小片塑料膜——胶版（mask），将这些图案精确地转移到硅材料上形成电路板。这一过程要求极高的精度和稳定性。

目前，在全球范围内，只有几个国家拥有成熟、能够量产高性能光刻系统的技术。这其中最著名的是日本和美国。日本公司如东芝、佳能等长期以来在这一领域占据了领先地位，而美国也有一些世界级的大型企业，如卡尔·齐斯克公司，其产品深受国际市场青睐。

不过，随着中国经济快速发展，它开始投入大量资金进行科技创新与研发。在这方面，一些国内企业已经取得了显著进步，比如中芯国际等，以至于现在中国也可以说是跟随者中的领导者之一。

除了这些大国之外，还有欧洲一些强大的工业国，如德国、法国等，也在不断加强自己的半导体产业基础，为自己争取更多的地位。但总体来说，无论是在研发还是生产上，他们仍然处于亚洲这几个主要竞争者的后面。

最后，由于这一领域涉及到的知识密集度极高，任何想要进入这个领域都必须投入巨大的资源才能实现自主可控。而且，即使是拥有高度自主化能力的一些国家，最终所生产出来的人才和技术也是全球性的交流融合结果，不可能完全独立完成所有环节，所以答案往往不是简单的问题，而是一个复杂多维度的问题需要综合考虑。